第343章 有分量!(1 / 2)

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 澜语墨那边继续的薅羊毛,纳斯达克提款机还在源源不断的为未来投资提供资金。</p>

而张京呆在燕京的这两天也接到了一个消息,林本健愿意做新公司的项目顾问。</p>

林晓听到这个消息,无疑是大喜。</p>

在后世的芯片制造行业,林本健绝对是个赫赫有名的人物。</p>

上世纪的最后二十年,岛国一直是半导体行业的绝对霸主,他们掌握了半导体行业众多关键技术与产品,其中一个很重要的就是光刻机。</p>

尼康和佳能的光刻机占据了市场上很大的份额,即便光刻机大国米国也被他们拉下马。</p>

尤其是尼康,是当之无愧的行业巨头。</p>

因为光刻机的本质与投景仪+照相机差不多,以光为刀,将设计好的电路图投射到硅片上。</p>

在那个芯片制程还停留在微米的时代,能做光刻机的企业,有数十家,而尼康凭借着相机时代的积累,在岛国半导体产业全面崛起的年代,成长为了光刻机行业的巨头。</p>

毫不夸张的说,当时的英特尔、IBM、AMD、德州仪器等半导体大厂,每天排队堵在尼康门口等待最新产品下线的热情,与后世大家眼巴巴等着阿斯麦EUV光刻机交货的迫切程度相差无几。</p>

而到了后面,之所以行业的巨头成为了阿斯麦,始于21世纪初的157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法的技术之争。</p>

进入90年代,光刻机的光源波长被限制死在193nm,成为了摆在全产业面前的一道难关。</p>

光刻机的光源就相当于刻刀,要雕刻的更精细,刀尖就得锋利,而当刀尖技术卡住了,也意味着芯片制造技术面临瓶颈。</p>

以尼康为代表的公司主张采用157nm的F2激光,继续研究光源技术。</p>

米国的一些公司则是押注更激进的极紫外技术,也就是后世赫赫有名的EUV光刻,试图直接用十几纳米的极紫外光来做光源。</p>

但是两者的需要克服的障碍都很多,进程非常慢。</p>

前一世的2002年,鬼才林本健横空出世,他在一次交流会上,首次提出“沉浸式光刻”方案。</p>

他的理论听起来很简单,就是利用水会影响光的折射率这一高中知识,在透镜和硅片之间加一层水,这样原有的193nm激光经过折射,不就直接越过了157nm的瓶颈,降低到了132nm吗?</p>

随后,林本健带着他的沉浸式光刻方案前往米国、岛国、德国等地,游说各家半导体巨头,但都吃了闭门羹。</p>

在这些巨头门看来,这只是理想情况,在精密的机器中加水构建浸润环境,既要考虑实际性能,又要担心污染,如果在这种“替代方案”花费精力,耽误了光源的研究,就有可能被对手反超。</p>

因为林本健的这个想法太过简单或者说太过理想化,而且等于否定了其它巨头正在走的技术路线,遭到了各大半导体巨头的集体拒绝,而且一度给台积电施压制止林本健到处乱窜搅局。</p>

当时在光刻机领域市场份额较小的荷兰厂家阿斯麦知道这个事情后,决定赌一把,因为这时候在市场里本来也无法和尼康等巨头竞争,他们押注沉浸式技术有可能实现以小博大。</p>

于是林本健和阿斯麦双方一拍即合,双方合作仅用一年多的时间,也就是在2004年,阿斯麦就做出了第一台样机。</p>

而林本健随后又说服了台积电使用这个方案,并完成了产品生产,让台积电在芯片制程技术上一举追上了之前遥遥领先的巨头英特尔。</p>

台积电成功批量生产证明了浸入式技术的工艺可能性,而且浸入式属于小改进大效果,产品成熟度非常高,随后英特尔、IBM等公司纷纷决定跟进,购买阿斯麦的光刻机。</p>

而尼康虽然随后也宣布自己的157nm产品样机完成,但是因为整个的技术并不是非常成熟,良品率还无法保证,没有人愿意购买它的产品。</p>

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